Lorsque vous créez une question, celle-ci prend par défaut le masque de question de base de votre projet (Le 3ème masque de la section "Clean", présente initialement dans tout projet).
Vous pouvez bien sûr la personnaliser comme vous le souhaitez, en vous rendant dans l'affichage des masques (touche F4 ou Onglet Affichage -> Masque des diapositives).
Il en va de même pour les masques de retours (feedbacks correct / incorrects), que vous pouvez personnaliser à l'envie de la même manière (touche F5 ou Affichage -> Masque des retours).
Un masque est automatiquement appliqué dans chacun des cas, pour le retrouver (correct par exemple) il s'agit du premier sous-masque présent dans la liste de gauche, son nom s'affiche au survol (correct feedback).
Le masque incorrect feedback étant le second de la liste, le masque réessayer le 3ème, etc... A vous de les personnaliser comme vous le voulez.
Il est possible d'appliquer rétroactivement ces changements pour les masques de retours, simplement en modifiant vos paramètres de masques. Seulement, tout objet créé en plus sera toujours présent, ainsi que le texte modifié.
Pour ce qui est des masques de diapos, il vous suffit dans votre Storyview de sélectionner plusieurs diapositives, de faire un clic droit, de choisir l'option mise en page, et d'appliquer celle de votre choix. Là encore, faire attention aux objets déjà présents, résultant de votre précédent masque.
Pour ce qui est du texte dans les retours, s'il est écrit dans le masque des retours, aucun soucis, il sera bien présent à chaque nouvelle question créée.
Il se pourrait, selon vos objets, qu'il reste donc certains résidus de textes, boutons ou autres, sur les diapositives créées AVANT la mise à jour de vos masques. Repassez bien sur vos diapositives pour les y enlever.
Il n'y aura pas ce problème avec les diapositives créées par la suite.
C'est pour cela qu'il est très important de bien paramétrer ses masques avant de démarrer la création de contenu (import des masques d'un précédent module, ou création directe).